Китай потребує 15 років для власних EUV-систем — Zeiss

·256 слівредакція
Китай потребує 15 років для власних EUV-систем — Zeiss

Керівник напівпровідникового підрозділу Zeiss Франк Ромунд оцінив, що Китаю знадобиться близько 15 років для створення власного обладнання EUV-літографії. Це обладнання є критичним для виробництва найсучасніших чипів, зокрема для штучного інтелекту.

Німецький виробник оптики Zeiss Group, який є ексклюзивним постачальником лінз для EUV-систем нідерландської ASML, вважає, що Китаю знадобиться приблизно півтора десятиліття, щоб самостійно створити передові літографічні машини. Таку думку висловив керівник напівпровідникового підрозділу Zeiss Франк Ромунд.

За його словами, оцінка у 15 років є «обґрунтованим припущенням», хоча точно передбачити темпи прогресу Пекіна складно. Ромунд зазначив, що Китай десятиліттями працював над технологією DUV-літографії (глибокий ультрафіолет) і досяг у цьому напрямку певних успіхів. «Це насправді не є несподіванкою, і тепер нам треба подивитися, на що дійсно здатне це обладнання», — додав він.

ASML залишається єдиним у світі виробником EUV-систем, які використовуються для створення мікросхем для прискорювачів штучного інтелекту. Оптика Zeiss застосовується у виробництві близько 80% усіх чипів у світі. Щоб задовольнити глобальний попит, компанія розширила штаб-квартиру в Оберкохені та наростила виробничі потужності.

Оцінка Ромунда з’явилася після звіту аналітиків швейцарського банку UBS, які припустили, що Китаю знадобиться щонайменше десять років для розробки власної EUV-технології. Ромунд, своєю чергою, підкреслив, що західні виробники поки що «далеко попереду».

Технології виробництва мікросхем стали ключовим об’єктом санкційних зусиль США, спрямованих на обмеження можливостей Китаю створювати сучасні чипи для навчання передових моделей ШІ. У 2018–2019 роках Нідерланди під тиском Вашингтона заблокували експорт до КНР передових EUV-систем ASML. У жовтні 2022 року США заборонили експорт провідного обладнання всім китайським виробникам логічних мікросхем, а наприкінці 2023-го та на початку 2024 року обмеження розширилися — Нідерланди заборонили ASML постачати до Китаю навіть частину менш сучасного DUV-обладнання.

Таким чином, Китай змушений розвивати власні літографічні технології в умовах жорстких санкцій. Хоча прогнозовані терміни створення конкурентних EUV-систем виглядають доволі віддаленими, темпи розвитку китайської напівпровідникової галузі можуть скоригувати ці оцінки. Подальший перебіг подій залежатиме як від ефективності санкцій, так і від здатності китайських виробників подолати технологічні бар’єри.

Читайте також