Китаю знадобиться 15 років для власних EUV-систем — Zeiss

Китай зможе самостійно створювати передові EUV-літографічні системи не раніше ніж за 15 років, вважає керівник напівпровідникового підрозділу Zeiss Group Франк Ромунд. Ця оцінка з'явилася на тлі посилення експортних обмежень з боку США та їхніх союзників.
Розробка Китаєм власного обладнання для екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV), необхідного для виробництва найсучасніших мікросхем, може тривати близько півтора десятиліття. Таку думку висловив Франк Ромунд, керівник напівпровідникового підрозділу німецької компанії Zeiss Group, яка є ексклюзивним постачальником оптики для EUV-систем нідерландської ASML Holding.
За словами Ромунда, ця оцінка є «обґрунтованим припущенням», хоча точно передбачити темпи прогресу Пекіна складно. Він зазначив, що Китай десятиліттями працював над системами глибокої ультрафіолетової літографії (DUV) і досяг у цьому напрямку певних успіхів. «Це насправді не є несподіванкою, і тепер нам треба подивитися, на що дійсно здатне це обладнання», — додав він, підкресливши: «Ми все ще далеко попереду».
ASML залишається єдиним у світі виробником EUV-обладнання, яке є критично важливим для створення чипів, зокрема для прискорювачів штучного інтелекту. Компоненти Zeiss використовуються для виробництва близько 80% мікросхем у світі. Щоб задовольнити глобальний попит, компанія розширила свою штаб-квартиру в Оберкохені та збільшила виробничі потужності.
Оцінка Ромунда з'явилася після публікації звіту аналітиків швейцарського банку UBS, які дійшли висновку, що Китаю, ймовірно, знадобиться ще щонайменше десять років для розробки власної технології EUV.
Технології виробництва мікросхем стали ключовим об'єктом санкційних зусиль Сполучених Штатів, які прагнуть обмежити здатність Китаю створювати найсучасніші чипи для навчання передових моделей штучного інтелекту. У 2018–2019 роках уряд Нідерландів під тиском США заблокував експорт до Китаю передових EUV-систем ASML. У жовтні 2022 року Вашингтон посилив тиск, заборонивши експорт провідного обладнання всім китайським виробникам логічних мікросхем.
Наприкінці 2023 та на початку 2024 років експортні обмеження розширилися: Нідерланди заборонили ASML постачати до КНР навіть частину менш сучасного обладнання на базі DUV-літографії. Таким чином, навіть за оптимістичних прогнозів, найближчими роками Китай навряд чи зможе повністю замінити імпортні технології у виробництві передових чипів.
Читайте також
Ще в розділі «Банки»
- Старт УПЛ: рекорди, повернення та розгром від «Шахтаря»
- Підпільне виробництво парфумів у Харкові та Львові: вилучено контрафакту на 235 млн грн
- Пільговий лізинг для ОПК: перші 26 угод на 91,2 млн грн
- Уряд розширив страхування воєнних ризиків: Київ у зоні підвищеного ризику, компенсації до 5 млн грн
- Понад 40 обстрілів за добу: як російські атаки перерозподіляють навантаження між регіонами







