Китай потребує 15 років для власних EUV-систем — Zeiss

Німецька компанія Zeiss Group, яка є ексклюзивним постачальником оптики для EUV-систем нідерландської ASML Holding, оцінює технологічний розрив Китаю у півтора десятиліття. За словами керівника напівпровідникового підрозділу Zeiss Франка Ромунда, такий термін є «обґрунтованим припущенням», хоча реальні темпи прогресу Пекіна складно оцінити.

ASML залишається єдиним у світі виробником обладнання для екстремальної ультрафіолетової літографії, яке критично важливе для створення чипів, зокрема для прискорювачів штучного інтелекту. Ромунд зазначив, що Китай десятиліттями працював над системами глибокої ультрафіолетової літографії (DUV) і досяг певних успіхів. «Це насправді не є несподіванкою, і тепер нам треба подивитися, на що дійсно здатне це обладнання», — сказав він, додавши: «Ми все ще далеко попереду».

Компоненти Zeiss використовуються для виробництва близько 80% мікросхем у світі. Щоб задовольнити глобальний попит, компанія розширила штаб-квартиру в Оберкохені та збільшила виробничі потужності.

Оцінка Ромунда з’явилася після публікації звіту аналітиків швейцарського банку UBS, які дійшли висновку, що Китаю, ймовірно, знадобиться ще щонайменше десять років для розробки власної технології EUV.

Технології виробництва мікросхем стали ключовим об’єктом санкційних зусиль Сполучених Штатів. Вашингтон прагне обмежити здатність Китаю створювати найсучасніші чипи для навчання передових моделей штучного інтелекту.

У 2018–2019 роках уряд Нідерландів під тиском США заблокував експорт до Китаю передових EUV-систем ASML. У жовтні 2022 року Сполучені Штати посилили тиск на китайський напівпровідниковий сектор, заборонивши експорт провідного обладнання всім китайським виробникам логічних мікросхем. Наприкінці 2023 та на початку 2024 років експортні обмеження розширилися: Нідерланди заборонили ASML постачати до КНР навіть частину менш сучасного обладнання на базі DUV-літографії.