Китай відстає на 15 років у передовій літографії – Zeiss

За словами пана Ромунда, ця цифра є «обґрунтованим припущенням», хоча точно оцінити реальний прогрес Пекіна складно. Zeiss виступає ексклюзивним постачальником оптики для EUV-систем нідерландської ASML Holding NV, яка залишається єдиним у світі виробником такого обладнання, критично важливого для створення чипів для прискорювачів штучного інтелекту.

Ромунд зауважив, що Китай десятиліттями працював над системами глибокої ультрафіолетової (DUV) літографії і досяг певних успіхів. «Це насправді не є несподіванкою, і тепер нам треба подивитися, на що дійсно здатне це обладнання», – зазначив він, додавши: «Ми все ще далеко попереду».

Наразі компоненти Zeiss використовуються для виробництва близько 80% мікросхем у світі. Щоб задовольнити глобальний попит, компанія розширила свою штаб-квартиру в Оберкохені та збільшила виробничі потужності.

Оцінка Ромунда з'явилася після публікації звіту аналітиків швейцарського банку UBS, які дійшли висновку, що Китаю, ймовірно, знадобиться ще щонайменше десять років для розробки власної технології EUV.

Технології виробництва мікросхем стали ключовим об'єктом санкційних зусиль Сполучених Штатів. Вашингтон прагне обмежити здатність Китаю створювати найсучасніші чипи для навчання передових моделей штучного інтелекту. У 2018-2019 роках уряд Нідерландів під тиском США заблокував експорт до Китаю передових EUV-систем ASML. У жовтні 2022 року Сполучені Штати посилили тиск на китайський напівпровідниковий сектор, заборонивши експорт провідного обладнання всім китайським виробникам логічних мікросхем.

Наприкінці 2023 та на початку 2024 років експортні обмеження розширилися. Нідерланди заборонили компанії ASML постачати до КНР навіть частину менш сучасного обладнання на базі DUV-літографії.